非標專業訂制半導體結晶清洗機廠家潔凈車間專用

半導體結晶清洗（多指晶圓 / 硅片濕法清洗）核心是：化學藥液 + 高壓噴淋 + 兆聲波 / 超聲波 + 超純水沖洗，把結晶表面的顆粒、有機物、金屬離子、氧化層做到原子級潔凈。下面從工藝、高壓泵選型、AR 泵適配與風險控制幾部分說明。

一、工況參數硬性要求

額定壓力

結晶清洗常用：20～80bar

嚴禁超壓沖擊硅晶、晶棒、晶圓，易產生微裂、崩邊

優先選額定壓力大于使用壓力 1.5 倍，留調壓余量

實際流量

按清洗槽數量、噴淋頭數量、循環水量定

小線體：60-100L/min

量產大線體：160-200L/min（對應 AR RTD200.80）

流量不足清洗不均，流量過大浪費藥液與純水

轉速要求

半導體首選低轉速泵：900~1000rpm

低轉速震動小、脈動小、發熱低、壽命長

高轉速 1450rpm 適合短時強力沖洗，不適合長時間連續結晶清洗

二、介質與防腐材質（重中之重）

輸送介質

超純水 DI 水：18.25MΩ 高純水

弱酸堿清洗液：SC1、SC2混合液

泵體材質必選

泵頭：鍛壓鎳銅合金 / 316 不銹鋼

柱塞：高純陶瓷柱塞（無金屬析出）

水封油封：FKM 氟膠 / EPDM 耐酸堿密封

禁止鑄鐵、普通碳鋼泵頭，會析出金屬離子污染晶片

三、潔凈等級 & 無油無污染（半導體紅線）

絕對無油污染

曲軸機油嚴禁滲入水路

必須帶雙道水封 + 隔離泄壓結構

AR 全系工業柱塞泵自帶油水隔離，滿足潔凈車間

低脈沖、低震動

三缸柱塞泵＞兩缸泵

脈動越小，晶片表面沖刷越均勻，無局部應力損傷

結晶最怕震動沖擊導致晶格移位

出水純凈無雜質

泵內部無粉末、無銹蝕、無脫落碎屑

原廠精加工內腔，避免二次顆粒污染

四、穩定性與連續工作能力

24 小時連續運行

半導體產線不停機，泵必須支持長時滿載

優先選工業級重載柱塞泵，不選家用 / 輕型清洗泵

壓力流量穩定性

負載變化壓力波動越小越好

搭配穩壓罐 + 變頻調速，精準控壓控流

抗氣蝕能力

大流量清洗進水流量大，極易氣蝕

選大流道進水泵，進水口徑大、吸入性能好

代表型號：AR RTD 系列大流量款

五、現場安裝與配套適配

軸端與動力匹配

實心軸直連電機最穩定，減少傳動抖動

確定軸徑、法蘭規格，方便現場裝配

進水條件

必須保證進水壓力≥1.5-2bar

進水不足直接抽空、震動大、傷結晶

環境要求

潔凈車間防塵、防潮、防腐蝕

泵外殼防銹耐水汽

六、能耗與后期維護

功率匹配

不偏大馬拉小車，省電又降溫

大流量低壓工況，優先大流量低壓力泵更省電

易損件通用

水封、單向閥、柱塞配件市面通用，方便快速更換

進口 AR 配件齊全，半導體行業普及率高

保養簡單

少油腔、易換油、易拆修，不耽誤產線節拍